光學(xué)平臺廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、精密機械制造、冶金、航天、航空、航海、精密化工和無損檢測等領(lǐng)域，以及其他機械行業(yè)的精密試驗儀器、設(shè)備振動隔離的關(guān)鍵裝置中，其動態(tài)力學(xué)特性的好壞直接影響試驗結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。儀器設(shè)備的微振動直接影響精密儀器設(shè)備的測量精度。隨著精密隔振要求的提升，需要不斷提高光學(xué)平臺的振動隔離技術(shù)。
我們的輕便光學(xué)平臺整體焊接支架，具有更好的剛性和穩(wěn)定性，支架下方帶高度調(diào)整機構(gòu)和腳輪，方便調(diào)整和搬運。
1.采用國標(biāo)(GB/T 20029-2005)規(guī)定的阻尼隔振墊，固有頻率通常小于3～6Hz，具有較好的隔振性能。
2.臺面材料為SUS410鐵磁不銹鋼，具有較好的耐腐蝕性能。
3.臺面厚度50-100mm，具有很好的厚重比和剛性，側(cè)面采用黑色鋁塑板包邊，美觀、實用。
4.教學(xué)和科研可兼顧的阻尼隔振光學(xué)平臺。
5.光學(xué)平臺整體焊接支架，具有更好的剛性和穩(wěn)定性，支架下方帶高度調(diào)整機構(gòu)和腳輪，方便調(diào)整和搬運。
6.采用國標(biāo)(GB/T 20029-2005)規(guī)定的阻尼隔振墊，固有頻率通常小于3～6Hz，具有較好的隔振性能。
光學(xué)平臺的選擇對于提升實驗精度，起著至關(guān)重要的作用。總體上說，光學(xué)平臺的隔振，通過三個方面來實現(xiàn)：
隔振支架：通常來說，氣浮式隔振支架性能優(yōu)于阻尼式隔振支架，部分性能優(yōu)異的隔振支架可以將外界振動(常見10～200Hz)減少一至兩個數(shù)量級
臺面物理性能：要求臺面有一定的剛性而且較輕(硬重比)，這樣的臺面可以有效減少共振時的振幅，這一點在后面闡述
臺面內(nèi)部結(jié)構(gòu)：臺面的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，除了負(fù)責(zé)減輕支架未能消除的外界振動外對于降低或消除因臺面上的沖擊和相對運動引起的振動，起到至關(guān)重要的作用
優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機器設(shè)備來加工，更需要有高科技精度的檢測手段與檢測儀器來保證，也只有優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺才能保證高精度的科學(xué)實驗、科學(xué)研究的正常進(jìn)行。
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